Grunnleggende prinsipp for ioneplating

Grunnleggende prinsipp for ioneplating: under vakuumforhold brukes en del plasma ioniseringsteknologi for å ionisere en del av atomene i plateringsmaterialet til ioner. Samtidig genereres mange nøytrale atomer med høy energi. Under virkningen av dyp negativ skjevhet blir således ionene avsatt på underlagsoverflaten for å danne en tynn film.

IKS PVD Technology (Shenyang) Co, Ltd , produsent av PVD vakuumbeleggsmaskin fra Kina, vårt hovedprodukt: dekorativt belegg mahcin, verktøybeleggsmaskin, optisk belegningsmaskin, PVD belegglinje. Mer informasjon, kontakt: iks.pvd@foxmail. com