Ubalansert magnetron sputtering belegg

Ubalansert magnetron sputtering belegg
Ubalansert magnetron sputtering refererer til den ulike magnetiske fluxen til magnetpolene i og utenfor katoden. Rollen til et ubalansert magnetfelt er å fange raskt bevegelige sekundære elektroner som rømmer fra målflaten. Disse elektronene ioniserer med nøytrale gassatomer langt fra målflaten og produserer flere ioner og flere elektroner i substratregionen, og øker dermed substratets ionbombardement sterkt. På grunn av utviklingen av ubalansert magnetron sputtering, har kvaliteten på tynne filmer blitt kraftig forbedret.

IKS PVD-selskap, dekorativ beleggmaskin, verktøybeleggmaskin, DLC-beleggmaskin, optisk beleggmaskin, PVD-vakuumbelegglinje, nøkkelprosjektet er tilgjengelig. Kontakt oss nå, E-post:iks.pvd@foxmail.com