Hva er prinsippet med fargerikt PVD-vakuumbelegg?

Hva er prinsippet med fargerikt PVD-vakuumbelegg?

Molekylær stråleepitaksi brukes mye til å fremstille forskjellige optisk integrerte enheter og forskjellige supergitterfilmer. Når den faste overflaten bombes med høyenergipartikler, kan partiklene på den faste overflaten få energi og rømme fra overflaten for å avsette seg på underlaget. Sputtering begynte å bli brukt i beleggsteknologi i 1870, og ble gradvis brukt i industrien etter 1930 på grunn av den økende avsetningsgraden. Materialet som skal deponeres gjøres vanligvis til en plate, et mål, som er festet på katoden. Substratet plasseres på anoden som vender mot måloverflaten, flere centimeter fra målet. Etter å ha blitt pumpet til høyt vakuum, blir systemet fylt med 10 ~ 1 pa gass (vanligvis argon), og noen kilovolt påføres mellom katoden og anoden, noe som gir en glødeavgivelse mellom elektrodene. De positive ionene som genereres av utslippet flyr til katoden under påvirkning av elektrisk felt og kolliderer med atomene på måloverflaten. Målatomer som rømmer fra måloverflaten ved kollisjonen kalles forstøvende atomer, hvis energi varierer fra 1 til dusinvis av elektronvolter. Sputrerende atomer avsettes på underlagsoverflaten for å danne galvanisering. Forskjellig fra fordampning av galvanisering, er ikke forstøvning av galvanisering begrenset av smeltepunktet for filmmateriale og kan sputte ildfaste stoffer som W, Ta, C, Mo, WC og TiC. Sputtering-sammensatte filmer kan fremstilles ved reaktiv sputtering, hvor reaksjonsgasser (O, N, HS, CH, etc.) tilsettes i Ar-gass, og reaksjonsgassene og deres ioner reagerer med målatomer eller sputteringsatomer for å produsere forbindelser ( slik som oksider, nitrid, etc.) og avsatt på underlaget. Isolasjonsfilmen kan avsettes ved høyfrekvent forstøvningsmetode. Underlaget er montert på jordelektroden, og isolasjonsmålet er montert på den motsatte elektroden. HF-strømforsyningen er jordet i den ene enden og koblet til en elektrode med et isolerende mål via et matchende nettverk og isolert DC-kapasitet. Etter at HF-strømforsyningen er slått på, endrer HF-spenningen kontinuerlig polariteten. Elektronene og de positive ionene i plasmaet treffer isolasjonsmålet ved de positive og negative halvsyklusene til spenningen. Siden elektronmobiliteten er høyere enn det positive ionet, er overflaten på det isolerende målet negativt ladet. Når den dynamiske likevekten er nådd, er målet ved et negativt forspenningspotensial, slik at det positive ionet til målet fortsetter.

IKS PVD selskap, dekorativ belegg maskin, verktøy belegg maskin, optisk belegg mahcine, PVD vakuum coting linje. Kontakt oss nå, E-post: iks.pvd@foxmail.com