Kjemisk dampavsetning (CVD)

kjemisk dampavsetning (CVD)

Kjemisk dampavsetning (CVD) er en metode for å danne metall- eller sammensatte filmer på substratoverflaten ved interaksjon av blandede gasser med substratoverflaten ved en viss temperatur.
Egenskapene til kjemisk dampavsetning er som følger: det er mange typer sedimenter, som kan deles inn i sedimentære metaller, halvlederelementer, karbider, nitrider, borider, etc. Og kan kontrollere sammensetningen og krystallformen til filmen i en stor område; Kan jevnt belegge den geometriske formen til komplekse deler; Avsetningshastigheten er rask, filmlaget er tett, og matrisen er fast bundet; Enkel å oppnå masseproduksjon.
På grunn av sin gode slitestyrke, korrosjonsbestandighet, varmebestandighet og elektriske, optiske og andre spesielle egenskaper, har kjemisk dampavsetningsfilm blitt mye brukt i mekanisk produksjon, romfart, transport, kullkjemisk industri og andre industrielle felt.

IKS PVD-selskap, dekorativ belegningsmaskin, verktøybeleggingsmaskin, DLC-beleggingsmaskin, optisk belegningsmaskin, PVD-vakuumbeleggingslinje, nøkkelferdig prosjekt er tilgjengelig. Kontakt oss nå, e-post:iks.pvd@foxmail.com