Vanlig Feilsøking av Magnetron Sputtering Film

Filmen er grå og mørk

1. Graden av vakuum er lavere enn 0,67 Pa. Graden av vakuum bør økes til 0,13-0,4 Pa.

2. Renhet av argon er mindre enn 99,9%. Plaese bruker argon med en renhet på 99,99%.

3. Oppblåsbare systemlekkasjer. Inflasjonssystemet bør kontrolleres for å eliminere lekkasjer.

4. Primeren er ikke helt helbredet. Herdingstiden til primeren bør utvides hensiktsmessig.

5. Mengden gass som frigjøres fra den belagte delen er for stor. Kammeret skal tørkes og forsegles

Dim og kjedelig overflate

1. Sputteringstid er for lang. Tiden skal forkortes på riktig måte.

2. Sputterings- og filmdannelseshastigheten er for rask. Vennligst reduser sputteringstrømmen eller spenningen på riktig måte.

Ujevn farge på belegg

1. Filmen er for tynn. Vennligst øk sputteringshastigheten eller sputteringstiden.

2. Irrasjonell fixture design. Fixture design bør forbedres.

3. Substratets geometri er for komplisert. Vennligst øk rotasjonshastigheten til substratet på riktig måte.

Filmen har rynker eller sprekker

1. Fordampningshastigheten er for rask. Det bør være riktig bremset.

2. Filmen er for tykk. Sputteringstid skal være riktig forkortet.

3. Underlagets temperatur er for høy. Vennligst forkort oppvarmingstiden til substratet.

Filmoverflaten har vannmerker, fingeravtrykk og sotpartikler

1. Substratet tørkes ikke tilstrekkelig etter rengjøring. Pre-plating behandling bør styrkes.

2. Underlaget på substratet er sprutet med vann eller spytt. Operatører bør bære masker.

Dårlig vedheft

1. Dårlig avfetting av plating deler. Pre-plating behandling bør styrkes.

2. Vakuumkammeret er ikke rent. Vakuumkammeret skal rengjøres. Vær oppmerksom på at under prosessen med lasting og lossing av mål er det strengt forbudt å bruke hender eller annet urent objekt er å berøre magnetronkilden.

3. Armaturet er ikke rent. Monteringen skal rengjøres.

4. Feil kontroll av sputtering prosessforhold. Vennligst forbedre sputtering prosessforholdene.