DC (DC) Magnetron Sputtering
Apr 01, 2023| DC (DC) magnetronsputtering
Forholdet mellom sputtering og trykk - i et visst område for å forbedre ioniseringshastigheten (så liten som mulig for å opprettholde en høy ioniseringshastighet under trykket), forbedre jevnheten for å øke trykket og sikre filmens renhet, forbedre filmadhesjonen til redusere trykkmotsigelsen, skape en balanse.

IKS PVD-selskap, dekorativ belegningsmaskin, verktøybeleggingsmaskin, DLC-beleggingsmaskin, optisk belegningsmaskin, PVD-vakuumbeleggingslinje, nøkkelferdig prosjekt er tilgjengelig. Kontakt oss nå, e-post: iks.pvd@foxmail.com
←
Et par: Raman-spektroskopi
Neste: Røntgendiffraksjon (XRD)
→
Sende bookingforespørsel


