Ion vakuum plating

Ionvakuumplating
Molekylene av fordampet materiale ioniseres ved elektronkollisjon og avsettes på den faste overflaten av ioner, som kalles ioneplatering. Teknikken ble utviklet av D. mettox i 1963. Ionbelegg er en kombinasjon av vakuumfordampning og katodeforstøvning. Substratet brukes som katoden og huset som anode, og en inert gass (f.eks. Argon) fylles for å gi en glødeavgivelse. Ionisering skjer når molekyler fordampet fra fordampningskilden passerer gjennom plasmaområdet. De positive ionene akselereres til substratoverflaten av den negative spenningen til substratet. De unioniserte nøytrale atomer (ca. 95% av fordampningsmaterialet) avsettes også på underlaget eller veggoverflaten til vakuumkammeret. Akselerasjonseffekten av elektrisk felt på ioniserte dampmolekyler (ionenergi er omtrent flere hundre ~ flere tusen elektron volt) og den sputrende renseeffekten av argonioner på substratet forbedrer filmens vedheftningsstyrke. Ionpletteringsprosessen kombinerer egenskapene til fordampning (høy avsetningshastighet) og sputtering (god filmadhesjon), og har god diffraktiv egenskap, som kan brukes til å belegge arbeidsstykket med kompleks form.

IKS PVD selskap, dekorativ belegg maskin, verktøy belegg maskin, optisk belegg maskin, PVD vakuum belegg linje, nøkkelferdige prosjektet er tilgjengelig. Kontakt oss nå, E-post: iks.pvd@foxmail.com