Kjemisk dampavsetning (CVD)

Kjemisk dampavsetning (CVD) er en mye brukt tynnfilmavsetningsteknikk basert på kjemiske reaksjoner mellom gassformige reaktanter og substratoverflater. I en CVD blir forløpergasser introdusert i reaksjonskammeret og oppvarmet til høye temperaturer for å lette den kjemiske reaksjonen ved å avsette faste filmer på substratet.

IKS PVD-selskap, dekorativ belegningsmaskin, verktøybeleggingsmaskin, DLC-beleggingsmaskin, optisk belegningsmaskin, PVD-vakuumbeleggingslinje, nøkkelferdig prosjekt er tilgjengelig. Kontakt oss nå, e-post: iks.pvd@foxmail.com