Mikrobølgeelektronsyklotronresonansplasmaforbedret kjemisk dampavsetning (MWECR-PECVD)

MWECR-PECVD bruker syklotronresonanseffekten til elektroner i mikrobølger og magnetfelt for å danne høyaktivt plasma med høy tetthet under vakuumforhold for kjemisk reaksjon i gassfase. Teknologi for å danne filmer av høy kvalitet ved lave temperaturer. Plasmaet til denne metoden genereres av elektromagnetisk bølgeeksitasjon, og dens vanlige frekvens er 2450MHz. Ved å endre energien til elektromagnetiske bølgefotoner, kan energien og levetiden til gassnedbrytning til partikler endres direkte, noe som har en betydelig innvirkning på generasjonen av filmen og behandlingsmekanismen til filmoverflaten, og bestemmer fundamentalt strukturen, egenskaper og stabilitet til den genererte filmen

IKS PVD-selskap, dekorativ belegningsmaskin, verktøybeleggingsmaskin, DLC-beleggingsmaskin, optisk belegningsmaskin, PVD-vakuumbeleggingslinje, nøkkelferdig prosjekt er tilgjengelig. Kontakt oss nå, e-post: iks.pvd@foxmail.com